硅钼棒长期高温连续工作,表层膜逐渐蒸发,使硅钼棒体从内部至表面进行热力学物相平衡,当表面硅的浓度梯度不足以形成*低硅化物相时,发生游离钼的氧化挥发,并在新的硅化钼界面上形成石英玻璃保护膜,如此不断挥发、生膜,元件则不断的减细,直到局部小截面处超负荷烧断失效。这主要是连续窑炉硅钼棒的失效形式。
圆圈硅钼棒是在实际使用特定的规格,用于局部加热使用。表面温度可以达到1600度,圆圈收口出距离大概5毫米,基本已经做到小距离的范围。
硅钼棒表层的石英玻璃膜在加热和冷却的热应力过程中,由热胀冷缩而引起的开裂、崩落、减薄,在裂纹及崩落的新表面上重新形成保护膜,该处即出现低于元件表面的凹坑,经一定次数的交替,元件表面形成直径1~2mm,深度0.2~0.5mm 的连续麻面,后在小截面处超温烧断。这主要是间隙炉的失效形式。
如果您对本商品有什么问题,请提问咨询!